Method to controllably etch silicon recess for ultra shallow junctions: United States Patent 9773907 (English Edition)

Method to controllably etch silicon recess for ultra shallow junctions: United States Patent 9773907 (English Edition) - /imga/415EoxA4juL.jpgSpacer

Passer la souris sur chaque image ou photo pour l´agrandir ...
Format Kindle - ASIN: b08wk5w2yz
Amazon

Mes commandes

Produits similaires

Prix :   3,29 €    Les prix peuvent varier.

1 neuf(s) à partir de :   3,29 €

Disponible pour le téléchargement maintenant.





Description

Method to controllably etch silicon recess for ultra shallow junctions: United States Patent 9773907 (English Edition)

Produits similaires

Suggestion : Voir la liste de nos catégories.